小型等離子清洗機集成了RF等離子體發(fā)生技術、計算機控制技術、軟件編程技術，采用氣體作為清洗介質，有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。工作時外接一臺真空泵，清洗腔內的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面，可短時間內*清洗掉有機污染物，清洗程度可達到分子級。另外，其樣品臺可選配加熱功能，可加負偏壓，用以實現(xiàn)離子蝕刻。此外，其可在特定條件下根據(jù)需要改變某些材料表面的性能。

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更新時間：2024-12-02
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小型等離子清洗機集成了RF等離子體發(fā)生技術、計算機控制技術、軟件編程技術，采用氣體作為清洗介質，有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。工作時外接一臺真空泵，清洗腔內的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面，可短時間內*清洗掉有機污染物，清洗程度可達到分子級。另外，其樣品臺可選配加熱功能，可加負偏壓，用以實現(xiàn)離子蝕刻。此外，其可在特定條件下根據(jù)需要改變某些材料表面的性能。

技術參數(shù)

主要特點	采用氣體作為清洗介質,避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。
	可短時間內*清洗掉有機污染物。
	清洗程度可達到分子級。
	可在特定條件下根據(jù)需要改變某些材料表面的性能。
	清洗過程中的輝光放電可對某些特殊用途的材料加強粘附性、相容性和浸潤性,并可消毒和殺菌.
	樣品臺可選配加熱功能,可加負偏壓,用以實現(xiàn)離子蝕刻.
	廣泛應用于光學,光電子學,電子學,材料科學,生命科學,高分子科學,生物醫(yī)學,微觀流體學等領域.
參數(shù)	電壓：AC220V 10A
	消耗功率：<500W（包括真空泵）
	RF電源：輸出功率100W，輸出頻率13.56MHz
	腔體：Φ190mm×98mm
	石英管：Φ180mm×55mm，壁厚7mm
	內腔：Φ165mm×55mm
	清洗電極：Φ120mm
	樣品臺：Φ150mm，有效尺寸Φ140mm
	樣品臺與電極間距：15mm-50mm可調
	抽氣管：Φ12mm
	極限真空度：0.1Pa
	工作真空度：60Pa-500Pa
	氣路數(shù)量：2路（選裝）
	流量控制器數(shù)量：1、2
	流量顯示儀：2通道
	氣路接口：Φ6mm
	加熱樣品臺：Φ140mm，加熱樣品溫度RT-600℃±1℃（選裝）
	冷卻水壓力：0.2KPa-0.4KPa
	工作環(huán)境：溫度5℃-35℃，濕度<80%（相對濕度）不結露，海拔高度0-2000m
產品規(guī)格	尺寸：245mm×235mm×460mm（不含真空泵）
產品規(guī)格	重量：20kg（不含真空泵）
可選配置	加熱樣品臺
可選配置	流量控制器（量程10、50、100，多可增加2個通道）

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