磁控濺射儀可用于金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多種新型薄膜材料的制備，且具有設(shè)備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優(yōu)點，可廣泛用于大專、科研院所的薄膜材料研究、制備。

產(chǎn)品分類CLASSIFICATION

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詳細介紹

品牌	其他品牌	價格區(qū)間	面議
產(chǎn)地類別	國產(chǎn)	應(yīng)用領(lǐng)域	化工,電子

    磁控濺射儀主要特點：

    1、真空度高。

    2、可制備多種薄膜，金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等，應(yīng)用廣泛。

    3、體積小，操作簡便。

    4、清理安裝便捷。

    5、控制可選一體化觸摸屏控制

    技術(shù)參數(shù)：

產(chǎn)品名稱	GSL-CKJS-450-B1磁控濺射儀
安裝條件	本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用.
	1、水:設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機（加注純凈水或者去離子水）
	2、電:AC380V 50Hz,必須有良好接地
	3、氣:設(shè)備腔室內(nèi)需充注氮/氬氣(純度99.99%以上),需自備實驗氣體氣瓶(自帶Ø10mm雙卡套接頭)及減壓閥
	4、場地:設(shè)備尺寸3500×1600mm,承重1000kg以上
	5、通風(fēng)裝置：需要
主要參數(shù)	1、主濺射室尺寸：Ø450×355mm筒形真空室
	2、主濺射室真空度：5×10-5Pa
	3、永磁靶3套,靶材尺寸φ2″,各靶射頻與直流濺射兼容(其中1個靶可濺射鐵磁材料),靶與樣品距離90-110mm可調(diào)
	4、三靶共濺,三個靶可共同折向樣品中心,距離40-80mm可調(diào)
	5、基片加熱與水冷獨立工作,加熱爐可與水冷樣品臺可互換,加熱工位最高溫度600℃±1℃
	6、樣品尺寸：φ1″
	7、樣品臺可連續(xù)回轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)速5-15轉(zhuǎn)/分
	8、基片可加-200V負偏壓
	9、公轉(zhuǎn)6工位樣品臺,可一次性安裝6片φ1″基片
	拆下水冷加熱樣品臺可換上6工位樣品臺,其中5個工位為自然冷卻工位,1個加熱工位,加熱工位溫度600℃±1℃
產(chǎn)品規(guī)格	整機尺寸:1500×900mm×2000mm；
標準配件	1、電源控制系統(tǒng)1套
	2、真空獲得系統(tǒng)1套
	3、真空測量裝置1套

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